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  • 產品名稱:雙靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產品型號:CY-600-2HD
  • 產品廠商:发彩网科儀
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簡單介紹:
雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀,可用於製備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等。與同類設備相比,這款雙靶磁控濺射鍍膜儀不僅應用廣泛,切體積小便於操作,是一款實驗室製備薄膜的理想設備。
詳情介紹:

產品特點

1:此款鍍膜儀配置有兩個靶槍:一個靶槍配套的是射頻電源,用於非導電靶材的濺射鍍膜;一個靶槍配套的是直流電源,用於導電材料的濺射鍍膜

2:該鍍膜儀可以製備多種不同材料的薄膜,應用非常廣泛。

3:該鍍膜儀體積較小,且配備有觸摸屏控製麵板,操作方便。

產品參數

電源

220V 50Hz

功率

2000W(含真空泵)

極限真空度

10-6torr

工作溫度

室溫~500

靶槍數量

2個(可選配其他數量)

靶槍冷卻方式

水冷

靶材尺寸

Φ50mm,厚度0.1~5mm

直流濺射功率

500W

射頻濺射功率

300W/500W

樣品台尺寸

140mm

樣品台轉速

1~20rpm可調

保護氣體

ArN2等惰性氣體

進氣氣路

2路氣路,質子流量計控製,每個流量為100sccm

爐體尺寸

500×560×660mm

整機尺寸

1300×660×1200mm

重量

160kg

可選配件

AuInAgPt

配件

直流電源控製係統1件;射頻電源控製係統1件;

膜厚儀1套;分子泵1台;冷水機1台;冷卻水管(φ6mm

靶材(不鏽鋼靶、陶瓷靶)

包裝

三合板木質包裝