激光鍍膜設備用途：
激光鍍膜設備用於生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料，適用於生長高熔點、多元素及含有氣體元素的複雜層狀超晶格薄膜材料。廣泛應用於大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量製備。
激光鍍膜設備技術參數：
|
主真空室 |
球型結構，尺寸Ø 450mm |
|
|
進樣室 |
圓筒型立式結構，尺寸Ø 150x 150mm |
|
|
真空係統配置 |
主真空室 |
分子泵與機械泵，閥門 |
|
進樣室 |
分子泵與機械泵（與主真空室共用），閥門 |
|
|
極限壓力 |
主真空室 |
≦6*10-6Pa（經烘烤除氣後） |
|
進樣室 |
≦6*10-3Pa（經烘烤除氣後） |
|
|
恢複真空時間 |
主真空室 |
20分鍾可達到5*10-3Pa（係統短時間暴露大氣並充幹燥氮氣開始抽氣） |
|
進樣室 |
20分鍾可達到5*10-3Pa（係統短時間暴露大氣並充幹燥氮氣開始抽氣） |
|
|
旋轉靶台 |
靶材*大尺寸約60mm；可一次安裝4塊靶材，可實現公轉換靶;每塊靶材可自轉，轉速5~60轉/分
|
|
|
基片加熱台 |
樣品尺寸 |
Ø51 |
|
運動方式 |
基片可連續回轉，轉速5~60轉/分 |
|
|
加熱溫度 |
基片加熱zui高溫度800Ｃ±1 C，可控可調 |
|
|
氣路係統 |
質量流量控製器1路，充氣閥1路 |
|
|
可選部件 |
激光器裝置 |
配相幹201激光器 |
|
激光束掃描裝置 |
二維掃描機械平台，執行兩自由度掃描 |
|
|
計算機控製係統 |
控製的內容主要有公轉換靶，靶自轉，樣品自轉、樣品控溫、激光束掃描等 |
|
|
設備占地麵積 |
主機 |
1800 * 1800mm2 |
|
電控櫃 |
700 *700mm2（1個）
|
|
