三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定製化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基板的大小自主選購；所配電源為500W直流電源和300W射頻電源，直流電源可用於金屬薄膜的製備，射頻電源可用於非金屬膜的製備，三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要，可以定製其他射頻電源和脈衝電源，各型電源均有300W到1000W多種規格可選。
鍍膜儀具有兩路高精度質量流量計，客戶若另有需求可以定製至多四路質量流量計的氣路，以滿足複雜的氣體環境構建需求；儀器標配先進的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控製，可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對係統進行控製，在電腦程序上可以實現真空泵組的控製、濺射電源的控製等絕大多數功能，可以進一步提高您的實驗效率。
三靶磁控濺射鍍膜儀適用範圍：
該設備可用於製備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便於操作的優點，是一款實驗室製備材料薄膜的理想設備。
三靶磁控濺射鍍膜儀技術參數：
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三靶磁控濺射鍍膜儀(直流電源+射頻電源) |
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樣品台 |
尺寸 |
φ185mm |
控溫精度 |
±1℃ |
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加熱溫度 |
*高500℃ |
轉速 |
1-20rpm可調 |
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磁控濺射頭 |
數量 |
2” x3 （1”,2”可選） |
水冷機規格 |
10L/min流速的循環水冷機 |
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冷卻方式 |
水冷 |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
300mm × 300mm × 300mm |
觀察窗口 |
φ100mm |
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腔體材料 |
不鏽鋼 |
開啟方式 |
上頂開式 |
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質量流量計 |
2路；量程100sccm；100sccm（可根據客戶需要定製多路氣路） |
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真空係統 |
產品型號 |
CY-GZK103-A |
抽氣接口 |
KF40 |
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分子泵 |
CY-600 |
排氣接口 |
KF16 |
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前極泵 |
旋片泵 |
真空測量 |
複合真空計 |
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極限真空 |
1.0E-5Pa |
供電電源 |
AC;220V 50/60Hz |
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抽氣速率 |
分子泵：600L/S 旋片泵：1.1L/S 綜合抽氣性能：20分鍾真空度可達： 1.0E-3Pa |
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電源配置 |
數量 |
直流電源 ×2 射頻電源×1 |
*大輸出功率 |
直流電源500W 射頻電源300W |
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其他 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
整機尺寸 |
600mm × 650mm × 1280mm |
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整機功率 |
3.5KW |
整機重量 |
300kg |
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